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In-situ洗凈方案

In-situ洗凈方案

EUV光刻裝置后工程（光刻處）的In-situ洗凈應(yīng)用例

In-situ洗凈方案(圖1)

效果

可以In-situ即時清洗低壓和高反應(yīng)性電極部（低濃度臭氧從未實現(xiàn)的顯著特征）

在沒有生成氧化物的同時去除污染（碳污染），保持光束反射率

100%濃度純臭氧不含NOx和H?O，不會對Mask,Mirror造成損傷

超真空環(huán)境下也能達到100%濃度純臭氧，可以充分分解Out Gas

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